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      掩膜版HMDS真空烘箱    hmds烤箱

      掩膜版HMDS真空烘箱 hmds烤箱

      簡要描述:

      掩膜版HMDS真空烘箱 hmds烤箱使基底表面由親水性變為疏水性,增強表面的黏附性(HMDS-六甲基二硅胺烷)。適用于硅片、麟化銦、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料。

      掩膜版HMDS真空烘箱    hmds烤箱應用原理

         掩膜版(Photomask),又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等,是微電子、集成光電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版, 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形,并通過曝光將圖形轉印到晶圓上。

      掩模版在設計時有著明場和暗場之分,在其與之光刻膠(正、負膠)曝光時可以根據工藝時的需要來選擇設計。上文已經提到正光刻膠曝光區域被溶解,負膠則相反。

      掩膜版主要由基板和遮光膜兩個部分組成。基板分為樹脂基板和玻璃基板,玻璃基板主要包括石英基板和蘇打基板,根據遮光膜種類的不同,可以分為硬質遮光膜和乳膠。

      掩膜版HMDS真空烘箱    hmds烤箱功能

        材質:內箱采用316L級不銹鋼

        工藝溫度:100-150℃

        溫度分辨率:0.1℃

        溫度波動度:≤±0.5

        真空度:≤133pa(1torr)

        操作界面:人機界面,一鍵作業

        層數:1-2層

        HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量

        圖像處理:圖像反轉

        真空泵: 進口無油泵

        保護裝置:緊急停止,HMDS藥液泄漏報&警提示,HMDS低液位報&警,超溫保護,漏電保護,過熱保護等

       掩膜版HMDS真空烘箱  光罩hmds烘箱  hmds預處理烤箱使基底表面由親水性變為疏水性,增強表面的黏附性(HMDS-六甲基二硅胺烷)。適用于硅片、麟化銦、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料。


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