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      圖像翻轉烘箱,光刻圖形反轉設備

      圖像翻轉烘箱,光刻圖形反轉設備

      簡要描述:

      圖像翻轉烘箱,光刻圖形反轉設備主要用于剝離過程,特別是在柔性電極、電極的制作以及其他一些MEMS器件工藝中。通過底切側壁形態,可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側壁上形成連續薄膜,有助于獲得干凈的剝離光刻膠結構。

       圖像翻轉烘箱,光刻圖形反轉設備工藝原理:

          光刻圖形反轉是一種特殊的工藝,用于制作?半導體器件。在曝光結束后,光刻膠中的圖像與想要得到的圖像是相反的,即曝光區域在顯影后會形成孔洞而不是島區。這種工藝主要用于制作孔洞結構,通過改變曝光區域和非曝光區域的相對分解率來實現。

      圖像翻轉烘箱,光刻圖形反轉設備的應用:

          光刻圖形反轉工藝主要用于剝離過程,特別是在柔性電極、電極的制作以及其他一些MEMS器件工藝中。通過底切側壁形態,可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側壁上形成連續薄膜,有助于獲得干凈的剝離光刻膠結構。

      光刻圖形反轉設備的性能

      尺寸(可定制)

      內腔尺寸:450寬×450深×450高(mm),外形尺寸:760×750×1500 (mm)

        材質

      內箱采用SUS304不銹鋼,外箱采用優質冷軋板靜電噴塑

      溫度范圍

      RT+50-250℃

      溫度分辨率

      0.1℃

      溫度波動度

      ≤±1℃

      操作模式

      人機界面

      升溫速率

      ≤5℃/min

      氣體

      2路供氣

      真空度

      0.1~100KPa

      電源及總功率 

      AC220V±10% / 50HZ       總功率約2.8KW

      溫度控制器

      觸摸屏微電腦溫控器,可校準溫度,PID 自整定等功能

      擱板層數

      不銹鋼托盤2層

      真空泵

      渦旋干泵

      腔門密封圈

      采用耐高溫硅橡膠密封圈,密封圈采用一體成型無縫加工


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