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      HMDS烘箱  圖像反轉系統 HMDS涂膠機

      HMDS烘箱 圖像反轉系統 HMDS涂膠機

      簡要描述:

      HMDS烘箱 圖像反轉系統 HMDS涂膠機使用HMDS(六甲基二硅氮烷)對晶圓表面進行快速、均勻、經濟高效的涂布,以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統還支持圖像反轉,形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負圖像。

      HMDS烘箱  圖像反轉系統 HMDS涂膠機用途

        使用HMDS(六甲基二硅氮烷)對晶圓表面進行快速、均勻、經濟高效的涂布,以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統還支持圖像反轉,形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負圖像。

      HMDS烘箱  圖像反轉系統 HMDS涂膠機應用行業

      MEMS系統

      CVD薄膜;

      光刻

      用于光刻膠附著力的 HMDS 

      作為聚合物和基材之間的粘合層

      作為印章和聚合物材料之間的非常薄和保形的離型層;

      噴墨

      防止墨水積聚在噴嘴面板上,確保墨水流動不受限制;

      生物MEMS

      親水性和生物相容性CVD薄膜可用于改善潤濕性,或防止蛋白質吸收,或減少器件性能的“漂移"

      微陣列芯片的硅烷/底物粘附:DNA、基因、蛋白質、抗體、組織;

      光學和 AR/VR 應用

      修改光學特性

      創建納米壓印層或鈍化層;

      圖像反轉

      金屬剝離工藝,用于WLP、RDL和掩模制造操作中的無蝕刻工藝;

      HMDS烘箱  圖像反轉系統 六甲基二硅氮烷涂膠機技術性能

        材質:內箱采用316L級不銹鋼

        工藝溫度:100-150℃

        溫度分辨率:0.1℃

        溫度波動度:≤±0.5

        真空度:≤133pa(1torr)

        操作界面:人機界面,一鍵作業

        層數:2層

        HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量

        圖像處理:圖像反轉

        真空泵: 進口無油泵

        保護裝置:緊急停止,HMDS藥液泄漏報&警提示,HMDS低液位報&警,超溫保護,漏電保護,過熱保護等


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