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      曝光后烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤的目的

      更新時間:2024-12-17   點擊次數:646次
        光刻膠在曝光完成后,光刻膠需要經過再一次烘烤,因為這次烘烤在曝光后,所以稱為“曝光后烘烤”,簡稱后烘或堅膜,英文為Post Exposure Bake(PEB)。
       
        曝光后烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤的目的--通過加熱的方式,使得光化學反應能夠充分完成。
       
        對于酚醛樹脂體系的光刻膠,PEB可以擴散感光劑以消除駐波效應。并且,PEB溫度不同時,感光劑的擴散距離不同,消除駐波的效果也不一樣。PEB在110度時,消除駐波效應明顯。
       
        對于化學放大型光刻膠,在后烘過程中,光酸起到催化光刻膠樹脂的去保護反應(Deprotection Reaction),又稱為脫保護反應。
        大量實驗表明,烤膠臺烘烤溫度的起伏是影響線寬均勻性的主要因素之一。在設置后烘工藝時, 對熱盤溫度均勻性的要求一般比軟烘的要求更高。
       
        烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤性能
       
        智能型烤膠機
       
        加熱尺寸:220*220mm(可定制),適用于Ø200毫米(8英寸)圓片或200x 200毫米方片以下尺寸產品;
       
        溫度范圍:RT~300°C
       
        溫度精度:0.1°C;
       
        溫度均勻性:≤±0.5℃;
       
        電動頂針調節高度: 0~30mm;
       
        加熱臺表面:耐腐蝕硬質陽極氧化鋁制成;
       
        控制器單元:7寸全彩觸摸屏,高級PLC控制,實現在特定時間內自動升降,可以定時取片;
       
        潔凈烘箱
       
        無塵等級:Class100;
       
        溫度范圍:RT~300/450℃;
       
        溫度均勻度:200℃±3℃;
       
        溫度波動度:±0.5℃(空載)
       
        工作尺寸(mm):
       
        450×450×450
       
        500×500×500
       
        600×700×800(可定制)
       
        可擴展功能:
       
        氧濃度檢測,無塵無氧烘箱
       
        智能聯網功能,MES等工業自動化軟件
       
        掃碼槍,掃碼溯源,一鍵讀取
       
        自動門控,上位機程控,機械手搬運產品
       

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