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      高溫無氧烘箱在半導體行業(yè)中的用途

      更新時間:2022-04-26   點擊次數:3026次

      高溫無氧烘箱在半導體行業(yè)中的用途

              高溫無氧烘箱應用于MEMS智能傳感器芯片生產、LCD前工段生產、玻璃基板等工藝中的PI(聚酰亞胺)固化,BCB聚合物、PBO高溫固化,銀膠固化,光刻膠固化,鍍金方案中感濕膜烘烤工藝,車載玻璃鍍膜后退火,硅片(晶圓)高溫退火,PCB板防氧化烘烤,氟橡膠材料厭氧烘烤工藝,電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求,適用于工廠生產、高校研究、科研機構研發(fā)等.

      PI高溫無氧烘箱的用途

            聚酰亞胺(PI)是目前在半導體和微電子工業(yè)中應用最為廣泛的高分子材料之一。PI是一類由酰亞胺環(huán)單體(如圖1)組成的聚合物。其中芳香族結構PI的熱學性能穩(wěn)定,因此通常微電子工業(yè)所用的PI材料是由芳香族的四酸二酐和芳香族二胺在有機溶液中發(fā)生縮聚反應生成聚酰胺酸或聚酰胺酯,而后經過一定的方法使其亞胺化(環(huán)化)得到PI。由于PI骨架上有環(huán)狀酰亞胺的剛性結構和芳香結構使得其具有很好的熱穩(wěn)定性、優(yōu)異的機械性能(強度高、膨脹系數低、耐磨耐老化、蠕變?。?、電性能(介電常數低、漏電低)和化學性能(穩(wěn)定、耐油、有機溶劑、稀酸等)。同時PI具有比無機介電材料(二氧化硅、氮化硅)更好的成膜性能和力學性能,對常用的硅片、金屬和介電材料有很好的粘結性能,廣泛應用于電子、光學、航空航天、光電器件等領域。

      高溫無氧烘箱技術性能


      工作室尺寸

      W350mm×350mm×H350mm

      W450mm×450mm×H450mm

      W500mm×500mm×H500mm

      W500mm×600mm×H700mm(可 定制)


      材質: 內箱采用耐高溫SUS304不銹鋼,外箱采用優(yōu)質冷軋板噴塑(可定制)

        

       溫度范圍: RT+50~450/550℃  

        

      溫度分辨率: 0.1℃


       溫度波動度:≤±1℃

        

       溫度均勻度:≤±1.5%℃

         

      潔凈度:Class1000   (可選class100)


      升溫速率:1~10℃/min,(可定制15℃/min)

         

      降溫速率: 高溫降溫至80度平均約4.0℃/min 

         

      氧含量:氧含量≤20ppm  


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