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      氮氣潔凈烘箱  光刻膠無塵烘箱   百級烘箱

      氮氣潔凈烘箱 光刻膠無塵烘箱 百級烘箱

      簡要描述:

      氮氣潔凈烘箱 光刻膠無塵烘箱 百級烘箱 適用于IC封裝、光刻膠固化、銀膠固化、電子液晶顯示、LCD、CMOS、MEMS、醫藥、實驗室等生產及科研.

      氮氣潔凈烘箱  光刻膠無塵烘箱   百級烘箱工藝

          不同的勻膠轉速,對應不同的光刻膠厚度,厚度越大,由于曝光的穿透深度以及光的衍射,光刻的分辨率就會越低,并且會在光刻膠側壁形成明顯的梯形。厚度太薄的話,在刻蝕的時候會被刻穿,要根據需要刻蝕的深度選擇合適的光刻膠厚度,從而選擇合適的轉速

      在勻膠結束后,使用溫度95°烘5min來提高光刻膠的致密性以及與晶圓的粘附性。

      氮氣潔凈烘箱  光刻膠無塵烘箱   百級烘箱指標

      潔凈度:Class100、1000     

      溫度:RT+15~200/300/400℃;
      氣體:N2 

      計時功能:可選 

      設備材質:內部SUS304不銹鋼           

      工作尺寸(mm):

      450×450×500

      500×500×550

      600×700×800

      (可定制)          

      網板:活動式2-5塊

      運行模式:定值或程式

      操作界面:按鍵或彩色觸摸屏

      氮氣潔凈烘箱  光刻膠無塵烘箱用途

      適用于IC封裝、光刻膠固化、銀膠固化、電子液晶顯示、LCD、CMOS、MEMS、醫藥、實驗室等生產及科研.

      驅趕膠中的溶劑

      提高膠對襯底的黏附性

      提高膠的抗腐蝕能力

      優化膠的光學吸收特性

      提高涂膠的均勻性

      提高條寬控制能力

      通過前烘,基片上的光刻膠基本固化。





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