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      小型蒸發鍍膜儀,實驗室氣相沉積設備

      小型蒸發鍍膜儀,實驗室氣相沉積設備

      簡要描述:

      小型蒸發鍍膜儀,實驗室氣相沉積設備 用于真空蒸發鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜、在襯底上沉積各單層金屬 膜,主要用于蒸鍍電極及有機半導體材料的物理化學性能研究實驗研究 。特別適合于高科技企業、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發。

      小型蒸發鍍膜儀,實驗室氣相沉積設備用途

         用于真空蒸發鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜、在襯底上沉積各單層金屬 膜,主要用于蒸鍍電極及有機半導體材料的物理化學性能研究實驗研究 。特別適合于高科技企業、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發。


      小型蒸發鍍膜儀,實驗室氣相沉積設備主要技術參數         

                                                       

      真空腔室尺寸:Φ300*H400mm,預留膜厚儀接口304不銹鋼材料,圓柱式,門上配有觀察窗;  

      真空系統 分子泵 +直聯旋片泵+高真閥門; “一低一高"數顯復合真空計;

      極限真空 真空極限優于 5×10-5Pa 

      溫度范圍 RT-600/1600℃,可調可控;

      基片臺尺寸最大可鍍基片尺寸/面積:Φ100mm 范圍內可裝卡各種規格配 套相應樣品架可固定各類不銹鋼掩膜板。

      基片臺旋轉:0-20 /分鐘,可調可控;

      蒸發源及電源水冷蒸發電極金屬蒸發電源;

      控制方式PLC+觸摸屏,自動控制;

      報警及保護對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執行相應保護措施;完善的邏輯程序互鎖保護系統;

      設備配電 AC220V/50HZ ,功率:3.5KW

      設備尺寸×寬×高:500*360*420mm


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