半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環。經耐高溫高效空氣過濾器過濾，使烘箱工作室內處于無塵狀態。
半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱性能介紹：
半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱
是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環。經耐高溫高效空氣過濾器過濾，使烘箱工作室內處于無塵狀態。潔凈烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結構。工作室內溫度采用智能式數顯溫度控制儀進行自動控制P.I.D調節,數顯時間控制,并設有斷路及超溫報警,操作方便,使用安全。
半導體光刻烤箱，晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱
可滿足電子電器、醫藥、實驗室等生產及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達350℃-400℃并且可加裝氮氣進出口。
、光刻涂膠用烘箱技術參數：
1．內部尺寸：600*500*750（mm） （內尺寸可選擇）
2．內箱分層：三層
3. 溫度范圍：RT＋10℃～300℃。
4．溫度波動：<±1℃。
5．溫度均勻：±2%（空載測試）。
依測規范：測SENSOR置放點，離內箱壁內尺寸1／10處。
6．溫控裝置：高精度P.I.D智能溫控儀表， LED數字顯示及設定、P.I.D自動演算、時間定時。
溫控輸出：SSR輸出，品牌繼電器，固態繼電器。
測溫裝置：1支PT100 鉑 電阻溫度傳感裝置，測溫精確。
氣體控制裝置：高效過濾氣體中微粒。
7．內室材料：采用無磁性鏡面不銹鋼；外箱采用 SS41# 中碳鋼板經磷酸皮膜鹽處理后兩層防光面涂裝烤漆，可防止微塵(PARTICLE) 。
8．保溫材質：硅酸鋁。
9．特質復合式SUS304＃不銹鋼電熱產生器。
保護裝置：超溫保護器，無熔絲開關。
